Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Izawa, Y. - Ultrathin Amorphous Si Layer Formation by Femtosecond Laser Pulse Irradiation
Izawa, Y. - Ultrathin Amorphous Si Layer Formation by Femtosecond Laser Pulse Irradiation
![](/opacUnicode/app/webroot/img/doctypes/6.gif)
Статья
Автор: Izawa, Y.
Applied Physics Letters: Ultrathin Amorphous Si Layer Formation by Femtosecond Laser Pulse Irradiation
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Izawa, Y.
Applied Physics Letters: Ultrathin Amorphous Si Layer Formation by Femtosecond Laser Pulse Irradiation
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Izawa, Y.
Ultrathin Amorphous Si Layer Formation by Femtosecond Laser Pulse Irradiation / Y.Izawa, [a.o.] // Applied Physics Letters. – 2007. – Vol.90, No.4. – p.044107. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.2431709. – Bibliogr.:14.
Спец.(статьи,препринты) = С 349.1 - Действие излучения на материалы$
Izawa, Y.
Ultrathin Amorphous Si Layer Formation by Femtosecond Laser Pulse Irradiation / Y.Izawa, [a.o.] // Applied Physics Letters. – 2007. – Vol.90, No.4. – p.044107. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.2431709. – Bibliogr.:14.
Спец.(статьи,препринты) = С 349.1 - Действие излучения на материалы$