Электронный каталог

Статья

Cho, I.W.
Reduction of Line Width and Edge Roughness by Using a Resist Reflow Process for Extreme Ultraviolet Lithography / I.W.Cho, [a.o.] // Journal of the Korean Physical Society. – 2010. – Vol.56, No.6. – p.1767-1771. – URL: http://dx.doi.org/10.3938/jkps.56.1767. – Bibliogr.:10.



Спец.(статьи,препринты) = Ц 848 - Технология производства электронной аппаратуры