Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Пикулев, А.А. - Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда
Пикулев, А.А. - Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда
Статья
Автор: Пикулев, А.А.
Журнал технической физики.Письма: Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Пикулев, А.А.
Журнал технической физики.Письма: Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Пикулев, А.А.
Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда / А.А.Пикулев, В.М.Цветков // Журнал технической физики.Письма. – 2010. – T.36, No.1. – с.97-104. – URL: http://www.ioffe.ru/journals/pjtf/2010/01/p97-104.pdf. – Библиогр.:16.
Спец.(статьи,препринты) = С 349.1 - Действие излучения на материалы$
Пикулев, А.А.
Фоторазложение гексахлорбифенила излучением KrCl (222 nm) эксилампы барьерного разряда / А.А.Пикулев, В.М.Цветков // Журнал технической физики.Письма. – 2010. – T.36, No.1. – с.97-104. – URL: http://www.ioffe.ru/journals/pjtf/2010/01/p97-104.pdf. – Библиогр.:16.
Спец.(статьи,препринты) = С 349.1 - Действие излучения на материалы$