Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Ishimaru, M. - Surface Sputtering in High-Dose Fe Ion Implanted Si
Ishimaru, M. - Surface Sputtering in High-Dose Fe Ion Implanted Si
Статья
Автор: Ishimaru, M.
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research B: Surface Sputtering in High-Dose Fe Ion Implanted Si
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Ishimaru, M.
Nuclear Instruments & Methods in Physics Research B: Surface Sputtering in High-Dose Fe Ion Implanted Si
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Ishimaru, M.
Surface Sputtering in High-Dose Fe Ion Implanted Si / M.Ishimaru // Nuclear Instruments & Methods in Physics Research B : Beam Interactins with Materials and Atoms. – 2007. – Vol.258, No.2. – p.490-492. – URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2007.01.285. – Bibliogr.:10.
Спец.(статьи,препринты) = Ц 848 - Технология производства электронной аппаратуры
Ishimaru, M.
Surface Sputtering in High-Dose Fe Ion Implanted Si / M.Ishimaru // Nuclear Instruments & Methods in Physics Research B : Beam Interactins with Materials and Atoms. – 2007. – Vol.258, No.2. – p.490-492. – URL: http://dx.doi.org/10.1016/j.nimb.2007.01.285. – Bibliogr.:10.
Спец.(статьи,препринты) = Ц 848 - Технология производства электронной аппаратуры