Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Kaneko, T. - Generation of Argon-Ion Mixed Silicon Plasmas Forming Argon Encapsulated Silicon Clusters
Kaneko, T. - Generation of Argon-Ion Mixed Silicon Plasmas Forming Argon Encapsulated Silicon Clusters
Статья
Автор: Kaneko, T.
Applied Physics Letters: Generation of Argon-Ion Mixed Silicon Plasmas Forming Argon Encapsulated Silicon Clusters
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Kaneko, T.
Applied Physics Letters: Generation of Argon-Ion Mixed Silicon Plasmas Forming Argon Encapsulated Silicon Clusters
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Kaneko, T.
Generation of Argon-Ion Mixed Silicon Plasmas Forming Argon Encapsulated Silicon Clusters / T.Kaneko, [et al.] // Applied Physics Letters. – 2006. – Vol.89, No.24. – p.241501. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.2404606. – Bibliogr.:13.
Спец.(статьи,препринты) = С 325.7 - Фуллерены (Сn). Атомные кластеры
Kaneko, T.
Generation of Argon-Ion Mixed Silicon Plasmas Forming Argon Encapsulated Silicon Clusters / T.Kaneko, [et al.] // Applied Physics Letters. – 2006. – Vol.89, No.24. – p.241501. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.2404606. – Bibliogr.:13.
Спец.(статьи,препринты) = С 325.7 - Фуллерены (Сn). Атомные кластеры
Привязано к:
Доступно
1 из 1
Выпуск
Applied Physics Letters Vol.89, No.24
American Institute of Physics, 11/12/2006 г.
ISBN отсутствует
Библиотека : ЦБ
Applied Physics Letters Vol.89, No.24
American Institute of Physics, 11/12/2006 г.
ISBN отсутствует
Библиотека : ЦБ