Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Apicella, M. L. - Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device
Apicella, M. L. - Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device
Доступно
1 из 1
1 из 1
Препринты
Автор: Apicella, M. L.
Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device
Серия: ENEA RT
Издательство: ENEA, 2003 г.
ISBN отсутствует
Автор: Apicella, M. L.
Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device
Серия: ENEA RT
Издательство: ENEA, 2003 г.
ISBN отсутствует
Заказать 
На полку
Препринты
3
Apicella, M.L.
Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device / M.L.Apicella, [a.o.]. – Rome : ENEA, 2003. – 14p. : il. – (ENEA RT, ISSN 0393-3016 ; 2003/71/FUS). – Bibliogr.:p.14.
3
Спец.(статьи,препринты) = С 353 б - Волны и неустойчивости в плазме
3
Apicella, M.L.
Ion Implantation on Nickel Targets by Means of a Repetitive Plasma Focus Device / M.L.Apicella, [a.o.]. – Rome : ENEA, 2003. – 14p. : il. – (ENEA RT, ISSN 0393-3016 ; 2003/71/FUS). – Bibliogr.:p.14.
3
Спец.(статьи,препринты) = С 353 б - Волны и неустойчивости в плазме
| Филиал | Фонд | Всего | Доступно для брони | Доступно для выдачи | Бронирование |
|---|---|---|---|---|---|
| ЗИЛ | 1 | 1 | 1 | Заказать |