Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Высоцкий, В.И. - Каналирование заряженных частиц около поверхности проводников и проводящих кристаллов
Высоцкий, В.И. - Каналирование заряженных частиц около поверхности проводников и проводящих кристаллов
Статья
Автор: Высоцкий, В.И.
Поверхность: Каналирование заряженных частиц около поверхности проводников и проводящих кристаллов
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Высоцкий, В.И.
Поверхность: Каналирование заряженных частиц около поверхности проводников и проводящих кристаллов
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Высоцкий, В.И.
Каналирование заряженных частиц около поверхности проводников и проводящих кристаллов / В.И.Высоцкий, [и др.] // Поверхность. – 2021. – №3. – с.105-112. – URL: https://doi.org/10.1134/S1027451021020178. – Библиогр.:22.
Спец.(статьи,препринты) = С 342 б2 - Прохождение заряженных частиц через кристаллы: каналирование, стринг-эффект, эффект "теней". Сверхтонкое взаимодействие для ядерных систем
Высоцкий, В.И.
Каналирование заряженных частиц около поверхности проводников и проводящих кристаллов / В.И.Высоцкий, [и др.] // Поверхность. – 2021. – №3. – с.105-112. – URL: https://doi.org/10.1134/S1027451021020178. – Библиогр.:22.
Спец.(статьи,препринты) = С 342 б2 - Прохождение заряженных частиц через кристаллы: каналирование, стринг-эффект, эффект "теней". Сверхтонкое взаимодействие для ядерных систем
