Электронный каталог

Статья

Seok, O.
Micro-Trench Free 4H-SiC Etching with Improved SiC/SiO&sub(2) Selectivity Using Inductively Coupled SF&sub(6)/O&sub(2)/Ar Plasma / O.Seok, [et al.] // Physica Scripta. – 2020. – Vol.95, No.4. – p.045606. – URL: http://dx.doi.org/10.1088/1402-4896/ab63ed. – Bibliogr.:25.



Спец.(статьи,препринты) = С 353 а - Общие вопросы физики плазмы