Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Тютрин, А.А. - Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда
Тютрин, А.А. - Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда
Статья
Автор: Тютрин, А.А.
Журнал технической физики. Письма: Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Тютрин, А.А.
Журнал технической физики. Письма: Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Тютрин, А.А.
Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда / А.А.Тютрин, [и др.] // Журнал технической физики. Письма. – 2018. – Т.44, №15. – с.12-19. – URL: https://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/46435. – Библиогр.:16.
Спец.(статьи,препринты) = С 33 а - Нанофизика. Нанотехнология$
Тютрин, А.А.
Формирование тонкого люминесцирующего слоя в кристаллах LiF под действием излучения тлеющего разряда / А.А.Тютрин, [и др.] // Журнал технической физики. Письма. – 2018. – Т.44, №15. – с.12-19. – URL: https://journals.ioffe.ru/articles/viewPDF/46435. – Библиогр.:16.
Спец.(статьи,препринты) = С 33 а - Нанофизика. Нанотехнология$
Привязано к:
Доступно
1 из 1