Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Калмыков, Ш.А. - Исследование распределения примеси в ионно-имплантированном слое полупроводника методами рентгено...
Калмыков, Ш.А. - Исследование распределения примеси в ионно-имплантированном слое полупроводника методами рентгено...
Статья
Автор: Калмыков, Ш.А.
Поверхность: Исследование распределения примеси в ионно-имплантированном слое полупроводника методами рентгено...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Калмыков, Ш.А.
Поверхность: Исследование распределения примеси в ионно-имплантированном слое полупроводника методами рентгено...
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Калмыков, Ш.А.
Исследование распределения примеси в ионно-имплантированном слое полупроводника методами рентгенофлуоресцентного анализа и эллипсометрии / Ш.А.Калмыков // Поверхность. – 2017. – №3. – с.95-99. – URL: http://dx.doi.org/10.1134/S1027451017020094. – Библиогр.:14.
Спец.(статьи,препринты) = С 33 а - Нанофизика. Нанотехнология$
Калмыков, Ш.А.
Исследование распределения примеси в ионно-имплантированном слое полупроводника методами рентгенофлуоресцентного анализа и эллипсометрии / Ш.А.Калмыков // Поверхность. – 2017. – №3. – с.95-99. – URL: http://dx.doi.org/10.1134/S1027451017020094. – Библиогр.:14.
Спец.(статьи,препринты) = С 33 а - Нанофизика. Нанотехнология$
