Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Mayr, L. - An (Ultra) High-Vacuum Compatible Sputter Source for Oxide Thin Film Growth
Mayr, L. - An (Ultra) High-Vacuum Compatible Sputter Source for Oxide Thin Film Growth

Статья
Автор: Mayr, L.
Review of Scientific Instruments: An (Ultra) High-Vacuum Compatible Sputter Source for Oxide Thin Film Growth
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Mayr, L.
Review of Scientific Instruments: An (Ultra) High-Vacuum Compatible Sputter Source for Oxide Thin Film Growth
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Mayr, L.
An (Ultra) High-Vacuum Compatible Sputter Source for Oxide Thin Film Growth / L.Mayr, [a.o.] // Review of Scientific Instruments. – 2013. – Vol.84, No.9. – p.094103. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.4821148. – Bibliogr.:25.
Спец.(статьи,препринты) = С 344.4б - Методы приготовления тонких пленок$
Mayr, L.
An (Ultra) High-Vacuum Compatible Sputter Source for Oxide Thin Film Growth / L.Mayr, [a.o.] // Review of Scientific Instruments. – 2013. – Vol.84, No.9. – p.094103. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.4821148. – Bibliogr.:25.
Спец.(статьи,препринты) = С 344.4б - Методы приготовления тонких пленок$