Электронный каталог

Препринты
37774

Pagani, C.
VUV Lithography Based on SiC Reflective Optical Systems and SASE FEL Coherent Light Sources as a Natural Extension to Shorter Wavelengths of Present-Day Optical Lithography Technology / C.Pagani, M.V.Yurkov. – Hamburg : DESY, 2001. – 10 p. – (DESY, ISSN 0418-9833 ; 01-179). – Bibliogr.:p.9-10.

3


Спец.(статьи,препринты) = С 332.8 - Синхротронное излучение. Лазеры на свободных электронах. Получение и использование рентгеновских лучей
ОИЯИ = ОИЯИ (JINR)2001