Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Cao, D. - Total-Dose Radiation Response of HfLaO Films Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
Cao, D. - Total-Dose Radiation Response of HfLaO Films Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
Статья
Автор: Cao, D.
IEEE Transactions on Nuclear Science: Total-Dose Radiation Response of HfLaO Films Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Cao, D.
IEEE Transactions on Nuclear Science: Total-Dose Radiation Response of HfLaO Films Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition
б.г.
ISBN отсутствует
На полку
Статья
Cao, D.
Total-Dose Radiation Response of HfLaO Films Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition / D.Cao, [a.o.] // IEEE Transactions on Nuclear Science. – 2013. – Vol.60,No.2, Pt.2. – p.1373-1378. – URL: http://dx.doi.org/10.1109/TNS.2013.2249092. – Bibliogr.:24.
Спец.(статьи,препринты) = С 349.1 - Действие излучения на материалы$
Cao, D.
Total-Dose Radiation Response of HfLaO Films Prepared by Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition / D.Cao, [a.o.] // IEEE Transactions on Nuclear Science. – 2013. – Vol.60,No.2, Pt.2. – p.1373-1378. – URL: http://dx.doi.org/10.1109/TNS.2013.2249092. – Bibliogr.:24.
Спец.(статьи,препринты) = С 349.1 - Действие излучения на материалы$
Привязано к:
Доступно
1 из 1
Выпуск
IEEE Transactions on Nuclear Science Vol.60,No.2, Pt.2
The Institute of Electrical and Electronics Engineers, 04/2013 г.
ISBN отсутствует
Библиотека : ЦБ.ЧЗ
IEEE Transactions on Nuclear Science Vol.60,No.2, Pt.2
The Institute of Electrical and Electronics Engineers, 04/2013 г.
ISBN отсутствует
Библиотека : ЦБ.ЧЗ