Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Вайнер, А.Я. - Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой лито...
Вайнер, А.Я. - Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой лито...
Статья
Автор: Вайнер, А.Я.
Доклады Академии Наук: Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой лито...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Вайнер, А.Я.
Доклады Академии Наук: Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой лито...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Вайнер, А.Я.
Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой литографии / А.Я.Вайнер, [и др.] // Доклады Академии Наук. – 2012. – Т.442, No.2. – с.195-199. – URL: http://www.maikonline.com/maik/showArticle.do?auid=VAGXWVHAER. – Библиогр.:15.
Спец.(статьи,препринты) = С 33 а - Нанофизика. Нанотехнология$
Вайнер, А.Я.
Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой литографии / А.Я.Вайнер, [и др.] // Доклады Академии Наук. – 2012. – Т.442, No.2. – с.195-199. – URL: http://www.maikonline.com/maik/showArticle.do?auid=VAGXWVHAER. – Библиогр.:15.
Спец.(статьи,препринты) = С 33 а - Нанофизика. Нанотехнология$