Электронный каталог

Статья

Yasutake, K.
An Atomically Controlled Si Film Formation Process at Low Temperatures Using Atmospheric-Pressure VHF Plasma / K.Yasutake, [a.o.] // Journal of Physics: Condensed Matter. – 2011. – Vol.23, No.39. – p.394205. – URL: http://dx.doi.org/10.1088/0953-8984/23/39/394205. – Bibliogr.:100.



Спец.(статьи,препринты) = С 344.4б - Методы приготовления тонких пленок$