Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Park, K. - Robustness of Topologically Protected Surface States in Layering of Bi&sub(2)Te&sub(3) Thin Films
Park, K. - Robustness of Topologically Protected Surface States in Layering of Bi&sub(2)Te&sub(3) Thin Films
Статья
Автор: Park, K.
Physical Review Letters: Robustness of Topologically Protected Surface States in Layering of Bi&sub(2)Te&sub(3) Thin Films
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Park, K.
Physical Review Letters: Robustness of Topologically Protected Surface States in Layering of Bi&sub(2)Te&sub(3) Thin Films
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Park, K.
Robustness of Topologically Protected Surface States in Layering of Bi&sub(2)Te&sub(3) Thin Films / K.Park, [et al.] // Physical Review Letters. – 2010. – Vol.105, No.18. – p.186801. – URL: http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.105.186801. – Bibliogr.:33.
Спец.(статьи,препринты) = С 344.4б - Методы приготовления тонких пленок$
Park, K.
Robustness of Topologically Protected Surface States in Layering of Bi&sub(2)Te&sub(3) Thin Films / K.Park, [et al.] // Physical Review Letters. – 2010. – Vol.105, No.18. – p.186801. – URL: http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.105.186801. – Bibliogr.:33.
Спец.(статьи,препринты) = С 344.4б - Методы приготовления тонких пленок$