Поиск :
Личный кабинет :
Электронный каталог: Жиляев, Ю.В. - Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источ...
Жиляев, Ю.В. - Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источ...
Статья
Автор: Жиляев, Ю.В.
Журнал технической физики.Письма: Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источ...
б.г.
ISBN отсутствует
Автор: Жиляев, Ю.В.
Журнал технической физики.Письма: Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источ...
б.г.
ISBN отсутствует
Статья
Жиляев, Ю.В.
Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источника / Ю.В.Жиляев, С.Н.Родин // Журнал технической физики.Письма. – 2010. – T.36, No.9. – с.11-16. – URL: http://www.ioffe.ru/journals/pjtf/2010/09/p11-16.pdf. – Библиогр.:3.
Спец.(статьи,препринты) = С 332.8 - Синхротронное излучение. Лазеры на свободных электронах. Получение и использование рентгеновских лучей
Жиляев, Ю.В.
Рост слоев нитрида галлия методом хлоридной газофазной эпитаксии при пониженной температуре источника / Ю.В.Жиляев, С.Н.Родин // Журнал технической физики.Письма. – 2010. – T.36, No.9. – с.11-16. – URL: http://www.ioffe.ru/journals/pjtf/2010/09/p11-16.pdf. – Библиогр.:3.
Спец.(статьи,препринты) = С 332.8 - Синхротронное излучение. Лазеры на свободных электронах. Получение и использование рентгеновских лучей