Электронный каталог

Статья

Kim, I.Y.
Extending the Nanocluster-Si/Erbium Sensitization Distance in Er-Doped Silicon Nitride: The Role of Er-Er Energy Migration / I.Y.Kim, [a.o.] // Applied Physics Letters. – 2009. – Vol.95, No.22. – p.221101. – URL: http://dx.doi.org/10.1063/1.3259723. – Bibliogr.:21.



Спец.(статьи,препринты) = С 325.7 - Фуллерены (Сn). Атомные кластеры