Электронный каталог

Статья

Qian, C.
Research on Total-Dose Hardening for H-Gate PD NMOSFET/SIMOX by Ion Implanting into Buried Oxide / C.Qian, [a.o.] // Chinese Physics C. – 2008. – Vol.32, No.2. – p.130-134. – URL: http://hepnp.ihep.ac.cn/qikan/epaper/zhaiyao.asp?bsid=6895. – Bibliogr.:13.



Спец.(статьи,препринты) = Ц 73 - Радиоаппаратура и радиодетали