Электронный каталог

Статья

Rosen, S.
Sub-Rayleigh Lithography Using High Flux Loss-Resistant Entangled States of Light / S.Rosen, [a.o.] // Physical Review Letters. – 2012. – Vol.109, No.10. – p.103602. – URL: http://dx.doi.org/10.1103/PhysRevLett.109.103602. – Bibliogr.:17.



Спец.(статьи,препринты) = С 332 а - Оптика атомов