Электронный каталог

Статья

Utlu, G.
Interesting Resistivity Behavior of the Ag-Ni-Si Silicide Films Formed at 850&sup(o)C by Rapid Thermal Annealing of the Ag-Ni/Si Films / G.Utlu // International Journal of Modern Physics B : Condensed Matter Physics.Statistical Physics.Applied Physics. – 2011. – Vol.25, No.28. – p.3773-3783. – URL: http://dx.doi.org/10.1142/S0217979211101892. – Bibliogr.:27.



Спец.(статьи,препринты) = С 344.4б - Методы приготовления тонких пленок$